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精密元件製作的新思路

更(gèng)新時(shí)間:2018-08-12      點擊次數:3356

文章(zhāng)來源:MaterialsViews

 

定向排(pái)列的纖維陣列,能賦予自身(shēn)*的電學(xué)和光學等方麵的特性,從而激發科研人員的廣泛研究。近年來,通(tōng)過對傳統靜電紡絲(sī)工藝的改進,科研人員已經能夠(gòu)針(zhēn)對大(dà)量微納米纖維進行同時操縱而製備出有(yǒu)序的納米纖維陣列,然而卻始終無法保證纖維陣列的高度有序性,從而極大(dà)的限製了其在精密微電子和光電子器件等領域的應用。為了彌補這種缺陷,需要開發新的製備(bèi)工藝來(lái)實現對(duì)單根微納米線的定位生長與沉積。

 

 

近日,中科院(yuàn)半導體研究所超晶格國家重點實驗室(shì)沈國震課題組與北京科技大學數理學院(yuàn)陳娣教授合作,設(shè)計出(chū)一種近場直寫技術,克服了傳統電紡(fǎng)纖維無序和不可(kě)控的缺點,實現了對單根微納米線的操縱,能夠在硬性基底(dǐ)和柔性基底上、大麵積的(de)製備高度有序的無機或有(yǒu)機微(wēi)納米線。利用這(zhè)種技術打印的鍺酸鋅微米線陣(zhèn)列可以按需求調控微米線的形貌、數目(mù)和沉積位置,進而避免了對於製備的微(wēi)納米(mǐ)線(xiàn)的二次操作(zuò)。基於鍺(zhě)酸鋅微米線的光電探測器件具有較低的暗電流(~10-12 A),並在360 nm的紫外光下表現出了高達4×103的開關比特性,同時還可以通過控製打印(yìn)微米線的數目來達(dá)到調控鍺酸鋅光電探測器件的光響應性能的(de)目(mù)的,這對於實現器(qì)件電學性能的可控性提供了十分有利的條件,在光敏成像等電子器件方麵具有極大的應(yīng)用潛力。基於這種鍺酸鋅微米線(xiàn)陣列,該課題組製作了7×7陣列的圖案化的集(jí)成圖像傳感器,像素密度(dù)為(wéi)10個/cm2。由於近場(chǎng)直寫過(guò)程中相鄰微米線之間的間距可調,因此可以進一步實現(xiàn)對於像素密度的提高和圖案化傳感器件的種類,進而在微電子器(qì)件和精密電子器件領域發(fā)揮一定的作用。這種半導體微米線集成打印(yìn)技(jì)術結合電子器件的圖案化設計能力,在(zài)不(bú)遠的將來能夠用於新型(xíng)的柔性可穿戴式傳感器件、電(diàn)子紡織(zhī)品、晶體管和精密集成電路等領域。

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